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제품안내

PECVD SYSTEM

  • PECVD는 진공 배기 후 각종 반응성 가스를 혼합 주입한 다음 플라즈마를 이용하여 반응성 가스를 활성화시켜 기판 위에서 원하는 화학 반응을 일으켜 그 위에 박막을 형성시키는 화학 기상 증착법의 하나로써 반도체 제조 공정에 범용으로 많이 쓰이는 장비입니다.
  • CVD종류에는 Thermal CVD, Plasma Enhanced CVD, Microwave CVD, Laser CVD, MOCVD(Metal Organic CVD) 등이 있습니다.