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제품안내

RIE SYSTEM

  • RIE 장비는 반도체용 건식 식각 장치로써 마주 보고 있는 두개의 평형 판형 전극에 고주파 전원을 인가하여 플라즈마 상태에서 반응성 가스를 활성화시켜 식각 시키고자 하는 물질을 화학 반응을 일으켜 휘발성 물질로 만들어 식각하는 원리를 이용합니다.
  • 고주파 전원의 인가 전극에 웨이퍼가 놓이는 Cathode-Couple 방식은 접지 전극측에 웨이퍼가 놓이는 Anode-Couple 방식보다 인가 전압이 커 높은 이온 충격을 이용할 수 있는 특징이 있는 장비입니다.